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（桌面式快速退火爐）

（自立式快速退火爐）

產(chǎn)品介紹

快速退火爐系列產(chǎn)品，采用紅外輻射加熱及冷壁技術(shù)，可實現(xiàn)對實驗材料的快速升溫和降溫，同時搭配超高精度的溫度控制系統(tǒng)，可達到極佳的溫場均勻性，對材料的快速熱處理、快速退火、快速熱氧化、快速熱氮化及金屬合金化等研究和生產(chǎn)工作起到重要作用。廣泛應(yīng)用于高校、科研院所、第三方檢測機構(gòu)、半導(dǎo)體制造企業(yè)等。

應(yīng)用功能

快速熱處理(RTP)、快速退火(RTA)、快速熱氧化(RTO)、快速熱氮化(RTN) ……

基片類型

硅片、碳化硅基片、化合物半導(dǎo)體基片、用于LED的GaN/藍寶石基片、用于太陽能電池的多晶硅基片、石墨和鍍碳化硅的石墨基座、玻璃基片、金屬、聚合物等。

器件類型

光電芯片、射頻芯片、MEMS傳感器芯片、功率器件、CMOS芯片、模擬芯片、分立器件、光伏器件、顯示器件、存儲器芯片、光電子芯片、MEMS芯片的制造等。

應(yīng)用材料

電子材料、陶瓷與無機材料、金屬材料、復(fù)合材料 、功能薄膜材料……

定制化應(yīng)用(創(chuàng)新實驗)

原位光學(xué)觀察、相變測試、原位電學(xué)測試、測熱膨脹系數(shù)……